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EMIC愛(ài)美克磁粉探傷器GT-301

更新時(shí)間：2025-09-18

簡(jiǎn)要描述：

EMIC愛(ài)美克磁粉探傷器GT-301
EMIC愛(ài)美克 GT-301 磁粉探傷器
磁粉探傷用補(bǔ)助機(jī)材

型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商瀏覽量：1274
品牌其他品牌貨號(hào)GT-301
規(guī)格1供貨周期一個(gè)月以上
主要用途磁粉探傷器應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保

EMIC愛(ài)美克磁粉探傷器GT-301

 EMIC愛(ài)美克 GT-301 磁粉探傷器

磁粉探傷用補(bǔ)助機(jī)材

テスラゲージ ＧＴ－３０１

EMIC愛(ài)美克磁粉探傷器GT-301

EMIC愛(ài)美克磁粉探傷器GT-301

磁粉探傷
４桁表示
３レンジ
オートゼロ機(jī)能
ピークホールド機(jī)能
ＤＣ／ＡＣ機(jī)能
オートパワーオフ機(jī)能
極性表示付
 

用途

●磁性材料の殘留磁束密度計(jì)測(cè)
●磁石の簡(jiǎn)易測(cè)定

 

測(cè)定レンジ30mT、300mT、1000mT（３レンジ）
測(cè)定磁界周波數(shù)ＤＣ?ＡＣ（50／60Hz）
機(jī)能オートゼロ機(jī)能、ピークホールド機(jī)能、オートパワーＯＦＦ機(jī)能
電源単３電池（４個(gè)）
校正前校正

 

 

通過(guò)VMU-LB和固定倍率觀察用相機(jī)卡口的
組合，能夠?qū)ν晃恢靡圆煌堵释瑫r(shí)觀
察。
(低倍率側(cè)：2/3型、高倍率側(cè)：1/2型等)

通過(guò)與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合，可實(shí)現(xiàn)高精度、高
品質(zhì)加工。
與簡(jiǎn)易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★保護(hù)膜、有機(jī)薄膜等的剝離
★金、鋁等金屬配線(xiàn)切割、下層圖案的外露
★FPD的各種缺陷修正
★光掩模修正
★標(biāo)記、修剪、圖像形成、局部退火、劃線(xiàn)

 

 

 

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